Plasmatechnologie : Reaktives Ionenstrahl-Ätzen
Bearbeitung von Mikrochips mit der Plasmatechnik noch verfeinert.
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | CHIP (1988; Nr 3; S 22-24)
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| VerfasserIn: |
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| Ort / Verlag / Datum: | Deutschland, 03.1988 |
| Erscheinungsjahr: | 1988 |
| Sprache: | Deutsch |
| Klassifikation: | 621.38 Elektronik
338.45:681.3 Datenverarbeitungsanlagenbau 54 Chemie 658.51 Fertigung |
| Zugänglichkeit: | Medien der SOWIDOK sind nur vor Ort in der AK Bibliothek Wien zugänglich Zugang erfordert Voranmeldung (siehe Bibliothekshomepage) Vervielfältigung nur unter den geltenden gesetzlichen Bestimmungen möglich |
| Anmerkungen: | Level: 3 (Bewertung des Dokuments nach SOWIDOK-internen Kriterien: von 1 = sehr relevant, bis 5 = kaum relevant) |
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Exemplare / Bindeeinheiten
SOWIDOK
| Signatur | Signatur 2 | Verfügbarkeit | Bestellen |
|---|---|---|---|
| Ablageschlagwort: 621.38 Elektronik | Dokument Nr. A-605903 | Verfügbar | Benutzung vor Ort auf Anfrage - siehe Bibliothekshomepage |
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